日照遮蔽膜形成用涂布液及相關(guān)的粘合劑、日照遮蔽膜和基材
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201810303576.3 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN108531076B | 公開(kāi)(公告)日 | 2018-09-14 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN108531076B | 申請(qǐng)公布日 | 2018-09-14 |
分類號(hào) | C09D183/06(2006.01)I;C09D7/62(2018.01)I | 分類 | 染料;涂料;拋光劑;天然樹(shù)脂;黏合劑;其他類目不包含的組合物;其他類目不包含的材料的應(yīng)用; |
發(fā)明人 | 飯?zhí)锓睒?shù) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 沙河市湡久新材料有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 石家莊圖歌知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 沙河市湡久新材料有限公司 |
地址 | 054100河北省邢臺(tái)市沙河市329省道經(jīng)十四路四側(cè) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種日照遮蔽膜形成用涂布液,包括粘合劑和近紅外線遮蔽劑,粘合劑包括式I所示的化合物。較佳地,式I所示的化合物采用含有縮水甘油氧基丙基的烷氧基硅烷、含有氨基丙基的烷氧基硅烷與四羥基二苯甲酮進(jìn)行混合反應(yīng)而成。烷氧基是甲氧基、乙氧基或丙氧基。近紅外線遮蔽劑是平均粒徑為100nm以下的近紅外線遮蔽微粒子。選自含氧化錫微粒子、含氧化鎢微粒子、含釕氧化物微粒子、含銥氧化物微粒子和含銠氧化物微粒子中的一種或多種。還提供了相關(guān)粘合劑、日照遮蔽膜和基材。本發(fā)明的日照遮蔽膜形成用涂布液不僅能夠在常溫下硬化成膜,而且獲得的硬化膜日照遮蔽能力高以及表面硬度高,設(shè)計(jì)巧妙,制備簡(jiǎn)便,成本低,適于大規(guī)模推廣應(yīng)用。?? |
