商標(biāo)進(jìn)度

商標(biāo)申請(qǐng)

2010-03-25

初審公告

2010-12-27

已注冊(cè)

2011-03-28

4

終止

2031-03-27

商標(biāo)詳情

商標(biāo)
S
商標(biāo)名稱 SIFOTONICS 商標(biāo)狀態(tài) 商標(biāo)已注冊(cè)
申請(qǐng)日期 2010-03-25 申請(qǐng)/注冊(cè)號(hào) 8149005
國(guó)際分類 42類-網(wǎng)站服務(wù) 是否共有商標(biāo) 否
申請(qǐng)人名稱（中文） NANO科技（北京）有限公司 申請(qǐng)人名稱（英文） -
申請(qǐng)人地址（中文） 北京市海淀區(qū)永豐路9號(hào)院2號(hào)樓4層101 申請(qǐng)人地址（英文） -
商標(biāo)類型 商標(biāo)注冊(cè)申請(qǐng)---打印注冊(cè)證 商標(biāo)形式 -
初審公告期號(hào) 1245 初審公告日期 2010-12-27
注冊(cè)公告期號(hào) 8149005 注冊(cè)公告日期 2011-03-28
優(yōu)先權(quán)日期 - 代理/辦理機(jī)構(gòu) GT110000
國(guó)際注冊(cè)日 - 后期指定日期 -
專用權(quán)期限 2021-03-28-2031-03-27
商標(biāo)公告 -
商品/服務(wù)
技術(shù)研究(4209)
科研項(xiàng)目研究(4209)
工程(4209)
技術(shù)項(xiàng)目研究(4209)
研究與開發(fā)(替他人)(4209)
物理研究(4214)
材料測(cè)試(4214)
科研項(xiàng)目研究()
工程()
研究與開發(fā)(替他人)()
物理研究(4209)
商標(biāo)流程
2011-04-25

商標(biāo)注冊(cè)申請(qǐng)---打印注冊(cè)證