振打自清潔沉淀裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202120057945.2 申請日 -
公開（公告）號 CN214344626U 公開（公告）日 2021-10-08
申請公布號 CN214344626U 申請公布日 2021-10-08
分類號 B01D21/02（2006.01）I;B01D21/00（2006.01）I;B01D21/30（2006.01）I 分類 一般的物理或化學(xué)的方法或裝置;
發(fā)明人 李杰;梁思懿 申請（專利權(quán)）人 中冶京誠工程技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 趙燕力;臧微微
地址 100176北京市大興區(qū)北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)建安街7號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型為一種振打自清潔沉淀裝置，該振打自清潔沉淀裝置包括沉淀池和填料框架，所述填料框架能活動地設(shè)置于所述沉淀池內(nèi)，所述填料框架內(nèi)填充有填料，所述填料框架上設(shè)置有檢測所述填料框架位移信息的位移傳感器和能帶動所述填料框架在所述沉淀池內(nèi)發(fā)生振動的至少一個振打器。本實用新型解決了沉淀池內(nèi)的填料易被污堵且不易發(fā)現(xiàn)，造成填料凈水能力下降、使用周期縮短的技術(shù)問題。