基于HCG的相干光垂直腔面發(fā)射激光器及激光器陣列

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110628337.7 申請日 -
公開（公告）號 CN113258441B 公開（公告）日 2021-10-01
申請公布號 CN113258441B 申請公布日 2021-10-01
分類號 H01S5/183（2006.01）I;H01S5/42（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 紀一鵬;常瑞華 申請（專利權(quán)）人 深圳博升光電科技有限公司
代理機構(gòu) 北京志霖恒遠知識產(chǎn)權(quán)代理事務所（普通合伙） 代理人 郭棟梁
地址 518000廣東省深圳市南山區(qū)桃源街道福光社區(qū)留仙大道3370號南山智園崇文園區(qū)3號樓2604
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請公開了一種基于HCG的相干光垂直腔面發(fā)射激光器及激光器陣列，其中激光器包括垂直腔面發(fā)射激光器主體，垂直腔面發(fā)射激光器主體包括至少一個激光出射窗口，各激光出射窗口的范圍內(nèi)，間隔并排設置有兩個以上第一高對比度光柵，任意兩相鄰第一高對比度光柵之間設置有第二高對比度光柵，第二高對比度光柵的反射光相位大于第一高對比度光柵的反射光相位。第二高對比度光柵的反射光相位大于第一高對比度光柵的反射光相位，使得第一高對比度光柵所覆蓋區(qū)域內(nèi)的部分光場會向第二高對比度光柵所覆蓋區(qū)域橫向傳播，即第二高對比度光柵起到了耦合的作用，使與其相鄰的兩個發(fā)光區(qū)域連接起來，從而發(fā)出相干光。