一種ZnO薄膜生長(zhǎng)用的MOCVD設(shè)備
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202210290119.1 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN114657536A | 公開(kāi)（公告）日 | 2022-06-24 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN114657536A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-06-24 |
| 分類號(hào) | C23C16/40（2006.01）I;C23C16/455（2006.01）I;C23C16/458（2006.01）I;C23C16/52（2006.01）I;F16F15/067（2006.01）I;B03C3/017（2006.01）I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 倪明堂;趙健州;何立波;吳俊美 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 廣東省智能機(jī)器人研究院 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 東莞卓為知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 523000廣東省東莞市松山湖園區(qū)學(xué)府路1號(hào)5棟 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種ZnO薄膜生長(zhǎng)用的MOCVD設(shè)備，其包括反應(yīng)室、氣體運(yùn)輸系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、反應(yīng)加工系統(tǒng)及減振平衡系統(tǒng)，所述反應(yīng)加工系統(tǒng)包括噴槍裝置、旋轉(zhuǎn)組件、放置平臺(tái)及升降機(jī)構(gòu)，所述反應(yīng)室設(shè)有溫度變色膠貼，所述減振平衡系統(tǒng)包括減振組件及平衡組件。本發(fā)明通過(guò)設(shè)置溫度變色膠貼用于將溫度變化直觀的反饋的操作人員，便于快速知曉MOCVD設(shè)備的溫度情況及時(shí)調(diào)整溫度；通過(guò)設(shè)置升降機(jī)構(gòu)用于快速調(diào)整平臺(tái)一的高度，使得MOCVD設(shè)備可根據(jù)需求用于不同厚度的襯底物料的放置及加工，可生產(chǎn)出不同厚度需求的ZnO薄膜，提高適用性；通過(guò)設(shè)置減振平衡系統(tǒng)用于提供減振功能及水平校正功能，提高噴涂的平衡及均勻性，提高產(chǎn)品質(zhì)量。 |
