一種ZnO薄膜生長用的MOCVD設備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202210290119.1 申請日 -
公開(公告)號 CN114657536A 公開(公告)日 2022-06-24
申請公布號 CN114657536A 申請公布日 2022-06-24
分類號 C23C16/40(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I;C23C16/458(2006.01)I;C23C16/52(2006.01)I;F16F15/067(2006.01)I;B03C3/017(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 倪明堂;趙健州;何立波;吳俊美 申請(專利權)人 廣東省智能機器人研究院
代理機構 東莞卓為知識產權代理事務所(普通合伙) 代理人 -
地址 523000廣東省東莞市松山湖園區(qū)學府路1號5棟
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種ZnO薄膜生長用的MOCVD設備,其包括反應室、氣體運輸系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、反應加工系統(tǒng)及減振平衡系統(tǒng),所述反應加工系統(tǒng)包括噴槍裝置、旋轉組件、放置平臺及升降機構,所述反應室設有溫度變色膠貼,所述減振平衡系統(tǒng)包括減振組件及平衡組件。本發(fā)明通過設置溫度變色膠貼用于將溫度變化直觀的反饋的操作人員,便于快速知曉MOCVD設備的溫度情況及時調整溫度;通過設置升降機構用于快速調整平臺一的高度,使得MOCVD設備可根據(jù)需求用于不同厚度的襯底物料的放置及加工,可生產出不同厚度需求的ZnO薄膜,提高適用性;通過設置減振平衡系統(tǒng)用于提供減振功能及水平校正功能,提高噴涂的平衡及均勻性,提高產品質量。