一種MOCVD設(shè)備的加熱裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202210288980.4 申請日 -
公開（公告）號 CN114622187A 公開（公告）日 2022-06-14
申請公布號 CN114622187A 申請公布日 2022-06-14
分類號 C23C16/46（2006.01）I;C23C16/40（2006.01）I;C23C16/455（2006.01）I;C23C16/458（2006.01）I;C23C16/505（2006.01）I;C23C16/52（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 倪明堂;趙健州;何立波;吳俊美 申請（專利權(quán)）人 廣東省智能機器人研究院
代理機構(gòu) 東莞卓為知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 -
地址 523000廣東省東莞市松山湖園區(qū)學(xué)府路1號5棟
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種MOCVD設(shè)備的加熱裝置，包括有反應(yīng)腔室、噴淋系統(tǒng)和底座，底座設(shè)置于反應(yīng)腔室內(nèi)壁底部，噴淋系統(tǒng)與反應(yīng)腔室連通；底座包括有襯底托盤、加熱組件、固定組件和旋轉(zhuǎn)組件，襯底托盤設(shè)置于加熱組件的上側(cè)，固定組件設(shè)置于加熱組件的下側(cè)，襯底托盤上設(shè)置有可供襯底放置的放置槽，旋轉(zhuǎn)組件驅(qū)動襯底托盤、加熱組件和固定組件旋轉(zhuǎn)。上述MOCVD設(shè)備的加熱裝置，能夠通過可控硅調(diào)節(jié)器控制通向加熱體的電壓、電流，進而控制值加熱體的功率，以實現(xiàn)精密控溫，使反應(yīng)溫度精確控制在一定范圍內(nèi)，保證反應(yīng)效率，而且能夠通過固定組件將襯底固定，防止其在反應(yīng)的過程中脫離襯底托盤，反應(yīng)完成后固定組件可以將ZnO薄膜頂起，以供機械手取出。