RWG型DFB激光器脊條上圖形窗口的實(shí)現(xiàn)工藝
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201810670020.8 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN108649428B | 公開（公告）日 | 2018-10-12 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN108649428B | 申請(qǐng)公布日 | 2018-10-12 |
| 分類號(hào) | H01S5/12(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 曲迪;白國人;陳墨;梁娟;宋學(xué)穎 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 華慧高芯科技（深圳）有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 天津市鼎和專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | 天津華慧芯科技集團(tuán)有限公司;華慧高芯科技（深圳）有限公司 |
| 地址 | 300467天津市濱海新區(qū)生態(tài)城中天大道1620號(hào)生態(tài)科技園啟發(fā)大廈12層101 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種RWG型DFB激光器脊條上圖形窗口的實(shí)現(xiàn)工藝。屬于微電子技術(shù)、光纖通信技術(shù)領(lǐng)域，其特征在于，至少包括以下步驟：步驟一：基片清洗；步驟二：在基片表面旋涂雙層光刻膠，通過曝光顯影，將光刻版上的圖案轉(zhuǎn)移至基片表面；步驟三：以光刻膠作掩膜，刻蝕出脊形波導(dǎo)結(jié)構(gòu)；步驟四：利用原子層沉積法沉積薄膜作為絕緣層；步驟五：通過Lift?off剝離工藝，去除光刻膠連同脊波導(dǎo)上方的薄膜，完成脊條上圖形開窗。通過采用上述技術(shù)方案，本發(fā)明在保證工藝效果的基礎(chǔ)上，簡(jiǎn)化了工藝流程，并且能夠降低制造的成本。?? |
