一種銅鉬合金的蝕刻液組合物及蝕刻方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110224955.5 申請日 -
公開（公告）號 CN113026018A 公開（公告）日 2021-06-25
申請公布號 CN113026018A 申請公布日 2021-06-25
分類號 C23F1/18;C23F1/26;C23F1/34;C23F1/38;C23F1/44 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 邵勇;徐楊;朱永剛;顧維忠;彭聰;胡生望 申請（專利權(quán)）人 四川江化微電子材料有限公司
代理機構(gòu) 無錫堅恒專利代理事務所（普通合伙） 代理人 杜興
地址 620860 四川省眉山市彭山經(jīng)濟開發(fā)區(qū)創(chuàng)新二路東段12號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種銅鉬合金的蝕刻液組合物，按蝕刻液組合物的重量100％計，其主要組成為5～12％的過氧化氫、5～10％的有機酸、5～10％的有機堿和0～0.5％的蝕刻抑制劑；有機堿為空間位阻胺或者其主要組成包含空間位阻胺，空間位阻胺25℃的pKa為10.3～11.1。本發(fā)明銅鉬合金的蝕刻液組合物采用空間位阻胺作為有機堿，或者有機堿的主要組成包括空間位阻胺，利用有機堿分子結(jié)構(gòu)的空間位阻，在無氟離子和磷組分的蝕刻體系中，改善反應后期有機酸消耗、堿性增強波動導致的鉬或鉬合金底切問題。本發(fā)明還公開了一種基于銅鉬合金的蝕刻液組合物的蝕刻方法。