一種串聯(lián)雙氣室痕量氣體分析系統(tǒng)及氣體濃度計算方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201710506806.1 申請日 -
公開（公告）號 CN107328738B 公開（公告）日 2019-05-28
申請公布號 CN107328738B 申請公布日 2019-05-28
分類號 G01N21/39（2006.01）I 分類 測量；測試;
發(fā)明人 胡雪蛟; 向柳 申請（專利權(quán)）人 武漢米字能源科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海精晟知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 武漢米字能源科技有限公司
地址 430072 湖北省武漢市東湖高新技術(shù)開發(fā)區(qū)高新大道999號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提出了一種串聯(lián)雙氣室痕量氣體分析系統(tǒng)，包含電路模塊、光學(xué)模塊和氣路模塊，激光驅(qū)動電路和數(shù)字溫控模塊都連接至激光器，激光器通過光纖連接至標(biāo)準(zhǔn)氣室上的激光入射接口，第一激光出射接口通過光纖連接至第二準(zhǔn)直匯聚透鏡，第二激光出射接口通過光纖連接至第三準(zhǔn)直匯聚透鏡，第一光電二極管探測器連接至第一前置放大電路，所述第二光電二極管探測器連接至第二前置放大電路。本發(fā)明消除了TDLAS技術(shù)中激光器波長漂移和溫度壓力變化等不穩(wěn)定因素對氣體分析結(jié)果的影響，提高系統(tǒng)對激光器性能的容錯率和對環(huán)境的適應(yīng)力。