減反射復(fù)合膜及其制備方法和應(yīng)用
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201911112457.0 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN112885906A | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-06-01 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112885906A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-06-01 |
| 分類號(hào) | H01L31/0216;H01L31/0445;H01L31/18 | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 邱陽(yáng);李博研;鐘大龍;宋斌斌;姜鑫先;張樹(shù)旺;張波 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 神華（北京）光伏科技研發(fā)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京潤(rùn)平知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 劉依云;喬雪微 |
| 地址 | 102209 北京市昌平區(qū)北七家鎮(zhèn)未來(lái)科技城定泗路237號(hào)都市綠洲313A室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明涉及減反射膜領(lǐng)域，公開(kāi)了減反射復(fù)合膜及其制備方法和應(yīng)用。所述減反射復(fù)合膜包含依次層疊的A膜層、第二材料膜，所述A膜層包含連續(xù)交替層疊的SiO2膜、第一材料膜，SiO2膜、第一材料膜的連續(xù)交替層疊次數(shù)大于等于4，其中，第一材料膜的折射率為1.95?2.41，厚度為12?150nm；所述SiO2膜的折射率為1.45?1.47，厚度為12?200nm；第二材料膜的折射率為1.35?1.39，厚度為90?120nm。本發(fā)明所述的減反射復(fù)合膜不僅具有較強(qiáng)的寬光譜減反射效果，而且在膜系設(shè)計(jì)及膜料選擇上充分考慮薄膜的應(yīng)力匹配問(wèn)題，使各膜層間具有較高的界面結(jié)合強(qiáng)度，延長(zhǎng)產(chǎn)品的使用壽命。 |
