防止SCR脫硝系統(tǒng)積灰和提升流場(chǎng)均勻性的防堵均布裝置
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202121645790.0 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN215782722U | 公開(公告)日 | 2022-02-11 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN215782722U | 申請(qǐng)公布日 | 2022-02-11 |
分類號(hào) | B01D53/90(2006.01)I;B01D53/56(2006.01)I;B01D46/10(2006.01)I | 分類 | 一般的物理或化學(xué)的方法或裝置; |
發(fā)明人 | 阮存欽;馮前偉;鐘永華;李翔;翁清龍;毛岳峰;李一義 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 福建華電可門發(fā)電有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 杭州天欣專利事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 張狄峰 |
地址 | 350512福建省福州市連江縣坑園鎮(zhèn)顏岐村 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種防止SCR脫硝系統(tǒng)積灰和提升流場(chǎng)均勻性的防堵均布裝置,包括灰斗、擋灰篩網(wǎng)、噴氨格柵、格柵噴嘴、均布裝置和催化劑層,擋灰篩網(wǎng)、噴氨格柵、格柵噴嘴和均布裝置設(shè)置在上升煙道內(nèi)且從下到上依次布置,擋灰篩網(wǎng)設(shè)置在噴氨格柵的下方,格柵噴嘴設(shè)置在噴氨格柵的頂部,均布裝置設(shè)置在格柵噴嘴的頂端,灰斗設(shè)置在上升煙道的入口處,且灰斗位于擋灰篩網(wǎng)和噴氨格柵的下方,催化劑層設(shè)置在下降煙道內(nèi)。本實(shí)用新型系統(tǒng)簡(jiǎn)單,能耗少,成本低,可操作性強(qiáng),對(duì)新建脫硝裝置或現(xiàn)役脫硝裝置改造均具有適用性,為鍋爐及脫硝裝置安全穩(wěn)定運(yùn)行創(chuàng)造了良好條件,具有良好的環(huán)保效益與經(jīng)濟(jì)效益,應(yīng)用前景廣泛。 |
