一種高光譜衛(wèi)星影像數(shù)據(jù)生產(chǎn)、鑲嵌與元數(shù)據(jù)制作方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010744500.1 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN111861934A | 公開（公告）日 | 2020-10-30 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN111861934A | 申請(qǐng)公布日 | 2020-10-30 |
| 分類號(hào) | G06T5/00(2006.01)I | 分類 | 計(jì)算；推算；計(jì)數(shù); |
| 發(fā)明人 | 楊剛;唐浩;陳勇;陳章林;陸莎莎;趙宗鴻;劉凱旋;樊鑫 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 貴陽歐比特宇航科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 貴州啟辰知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 貴陽歐比特宇航科技有限公司 |
| 地址 | 550018貴州省貴陽市貴陽國家高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)長(zhǎng)嶺南路茅臺(tái)國際商務(wù)中心B樓19樓 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種高光譜衛(wèi)星影像數(shù)據(jù)生產(chǎn)、鑲嵌與元數(shù)據(jù)制作方法，充分利用高光譜衛(wèi)星數(shù)據(jù)源，并對(duì)采集過程中存在的影像漏洞區(qū)域采用符合時(shí)相要求的存檔數(shù)據(jù)或編程拍攝兩種方式進(jìn)行補(bǔ)充；對(duì)高光譜衛(wèi)星遙感影像首先進(jìn)行輻射校正生產(chǎn)、大氣校正生產(chǎn)，然后結(jié)合DEM和DOM資料完成單景影像幾何精校正，即正射校正，并對(duì)正射影像真彩色圖像進(jìn)行影像鑲嵌、勻光勻色和制作鑲嵌線元數(shù)據(jù)，最后得到優(yōu)于10米空間分辨率的高光譜衛(wèi)星影像數(shù)據(jù)；最后進(jìn)行質(zhì)量檢查；本發(fā)明覆蓋范圍廣、影像分辨率高且質(zhì)量過關(guān)。?? |
