一種石英晶體振蕩器真空濺射鍍膜掩膜板的校準(zhǔn)裝置及方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201710294714.1 申請日 -
公開（公告）號 CN107099768B 公開（公告）日 2019-07-12
申請公布號 CN107099768B 申請公布日 2019-07-12
分類號 C23C14/04 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 李萬輝 申請（專利權(quán)）人 東晶銳康晶體（成都）有限公司
代理機構(gòu) 成都睿道專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 東晶銳康晶體（成都）有限公司
地址 610041 四川省成都市高新區(qū)西部園區(qū)天映路101號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種石英晶體振蕩器真空濺射鍍膜掩膜板的校準(zhǔn)裝置，它包括底板（5）、定位板（6）和校正板（7），定位板（6）固定于底板（5）的頂部，定位板（6）縱向設(shè)置，定位柱（8）截面呈三角形，校正板（7）放置于底板（5）上且遮蓋腰形孔和電磁鐵（11），校正板（7）的邊緣上設(shè)置有兩個V形卡槽（12），它還包括第一定位桿（13）和第二定位桿（14），第一定位桿（13）的下端部貫穿校正板（7）且抵于第一腰形孔（9）內(nèi)，第二定位桿（14）的下端部穿過校正板（7）且抵于第二腰形孔（10）內(nèi)，定位桿的外徑小于腰形孔的寬度；它還公開了校準(zhǔn)方法。本發(fā)明的有益效果是：結(jié)構(gòu)緊湊、提高校準(zhǔn)效率、減輕勞動強度、操作簡單。