一種耐強(qiáng)酸的光掩膜及其制作方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201310654685.7 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN103616795B | 公開(公告)日 | 2017-03-29 |
申請公布號 | CN103616795B | 申請公布日 | 2017-03-29 |
分類號 | G03F1/68(2012.01)I | 分類 | 攝影術(shù);電影術(shù);利用了光波以外其他波的類似技術(shù);電記錄術(shù);全息攝影術(shù)〔4〕; |
發(fā)明人 | 徐根;陳社誠;周志剛 | 申請(專利權(quán))人 | 湖南電子信息產(chǎn)業(yè)集團(tuán)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 長沙智嶸專利代理事務(wù)所 | 代理人 | 湖南普照信息材料有限公司;湖南電子信息產(chǎn)業(yè)集團(tuán)有限公司 |
地址 | 410205 湖南省長沙市岳麓區(qū)麓楓路40號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種耐強(qiáng)酸的光掩膜及其制作方法。該耐強(qiáng)酸的光掩膜包括:玻璃基板和設(shè)置在玻璃基板上的鉻膜層,其中鉻膜層包括朝向遠(yuǎn)離玻璃基板方向依次設(shè)置的鉻碳氮化物遮光膜層和鉻氮氧化物減反射膜層。該制作方法包括獲取玻璃基板,在玻璃基板上形成鉻膜層,其中形成鉻膜層的步驟包括:在玻璃基板上形成鉻碳氮化物遮光膜層;在鉻碳氮化物遮光膜層上形成鉻氮氧化物減反射膜層。本發(fā)明的具有雙層結(jié)構(gòu)鉻膜層的光掩膜具有良好的耐強(qiáng)酸腐蝕性,因此可以采用強(qiáng)酸對本發(fā)明提供的光掩膜進(jìn)行清洗,以使其保持潔凈的狀態(tài),進(jìn)而保證存儲信息的可靠性。 |
