光掩膜坯料及其制備方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201310646364.2 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN103616794B 公開(kāi)（公告）日 2017-11-24
申請(qǐng)公布號(hào) CN103616794B 申請(qǐng)公布日 2017-11-24
分類號(hào) G03F1/60(2012.01)I;G03F7/26(2006.01)I;G02F1/1335(2006.01)I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 徐根;陳社誠(chéng);周志剛 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 湖南電子信息產(chǎn)業(yè)集團(tuán)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 長(zhǎng)沙智嶸專利代理事務(wù)所 代理人 湖南普照信息材料有限公司;湖南電子信息產(chǎn)業(yè)集團(tuán)有限公司
地址 410205 湖南省長(zhǎng)沙市岳麓區(qū)麓楓路40號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種光掩膜坯料及其制備方法。該制備方法包括以下步驟：用80～100℃質(zhì)量分?jǐn)?shù)大于98％的硫酸浸泡玻璃基板，漂洗，烘干；依次在玻璃基板頂面上疊置形成阻擋層、遮光層、減反射層。所得光掩膜坯料的膜層反射率僅為0～1％，反射率得到極大的降低。光密度(OD)值在波長(zhǎng)450nm處為4.5～6.0，OD值得到提高。