濺射室壓力穩(wěn)定方法、濺射鍍膜方法和穩(wěn)壓濺射裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201510002556.9 申請日 -
公開（公告）號 CN104694890B 公開（公告）日 2017-03-29
申請公布號 CN104694890B 申請公布日 2017-03-29
分類號 C23C14/34(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 徐根;陳社誠;周志剛 申請（專利權(quán)）人 湖南電子信息產(chǎn)業(yè)集團有限公司
代理機構(gòu) 長沙智嶸專利代理事務(wù)所 代理人 湖南普照信息材料有限公司;湖南電子信息產(chǎn)業(yè)集團有限公司
地址 410205 湖南省長沙市岳麓區(qū)麓楓路40號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種濺射室壓力穩(wěn)定方法、濺射鍍膜方法和穩(wěn)壓濺射裝，濺射室壓力穩(wěn)定方法包括以下步驟：1)實時測量靶材濺射區(qū)域的真空值以得到實測值，實時測量靶材非濺射區(qū)域的真空值以得到參照值；2)調(diào)整抽取氣體的速度使得所述實測值和所述參照值均處于預(yù)設(shè)壓力范圍內(nèi)；3)調(diào)整抽取氣體的速度使得所述實測值和所述參照值的差值均處于預(yù)設(shè)差值范圍內(nèi)。上述濺射室壓力穩(wěn)定方法測量了靶材濺射區(qū)域的真空值和靶材非濺射區(qū)域的真空值，反映了濺射室真空值的真實情況，通過調(diào)整抽取氣體的速度，調(diào)節(jié)真空值達到預(yù)設(shè)值，并調(diào)整實測值和真空值的差值達到預(yù)設(shè)差值，使得濺射室壓力穩(wěn)定，制程氣體的速度不變，保證濺射室內(nèi)氣體組分穩(wěn)定。