一種單工位硅拋光片載體盤冷卻清洗機

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201420268829.5 申請日 -
公開（公告）號 CN203941889U 公開（公告）日 2014-11-12
申請公布號 CN203941889U 申請公布日 2014-11-12
分類號 H01L21/67(2006.01)I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 牛海濤;范強;焦二強;李珩粉;張磊 申請（專利權(quán)）人 洛陽單晶硅集團有限責任公司
代理機構(gòu) 洛陽明律專利代理事務(wù)所 代理人 洛陽單晶硅有限責任公司
地址 471009 河南省洛陽市西工區(qū)九都路77
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種單工位硅拋光片載體盤冷卻清洗機，適用于單晶硅片拋光生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域。本實用新型是在同一工位中同時采用了傳導(dǎo)散熱和噴淋降溫兩種冷卻方式對裝片后的載體盤進行冷卻、淋洗，以此來完成拋光前的準備工序。操作人員只需將裝片后的載體盤放置在冷卻盤（3）上，按下按鈕（11），閉合艙蓋（7），冷卻盤（3）就會按設(shè)定工藝要求完成載體盤的冷卻、淋洗工作，使接近90℃高溫的陶瓷載體盤通過單面水冷、淋洗等方式降低至30℃以下，以滿足下道拋光工序要求。本實用新型設(shè)備體積小，移動方便，占空間位置不足0.5平方米。使得原先需要三、四個工位才能完成的冷卻、淋洗工序集中在一臺設(shè)備上完成，降低了成本，節(jié)約了投資，明顯提高了工作效率。