一種制備光子晶體薄膜卷繞式真空鍍膜設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202111372847.9 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN114086147A 公開(kāi)（公告）日 2022-02-25
申請(qǐng)公布號(hào) CN114086147A 申請(qǐng)公布日 2022-02-25
分類號(hào) C23C14/56（2006.01）I;C23C14/24（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 時(shí)家明;黃晶晶;趙大鵬;陳宗勝;呂相銀;李志剛;汪家春 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 合肥中隱新材料有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京科億知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 張濤
地址 230071安徽省合肥市蜀山區(qū)井蜀路68號(hào)自主創(chuàng)新產(chǎn)業(yè)基地7棟3層309-24室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，尤其為一種制備光子晶體薄膜卷繞式真空鍍膜設(shè)備，包括真空鍍膜罐，所述真空鍍膜罐的底部連接有膜料蒸發(fā)系統(tǒng)，所述真空鍍膜罐的一側(cè)設(shè)置有排氣管道，所述排氣管道連接有真空排氣系統(tǒng)，所述物料管道遠(yuǎn)離真空鍍膜罐的一端連接有物料架，本發(fā)明通過(guò)在真空鍍膜罐的內(nèi)部設(shè)置換向輥，使光子晶體柔性材料在鍍膜過(guò)程中一次就完成兩層鍍膜，且全程在真空過(guò)程中進(jìn)行，能夠保證膜料的均勻性和連續(xù)性，且通過(guò)第一冷卻輥和第二冷卻輥兩次冷卻，能夠保證鍍膜的穩(wěn)定性，顯著地提高了光子晶體膜層的厚度精確性和鍍膜均勻性，提高了鍍膜品質(zhì)和鍍膜效率，具有通用性強(qiáng)、適用范圍廣、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、生產(chǎn)容易等特點(diǎn)。