一種沉淀及過濾電極箔化成電解槽

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201721029180.1 申請日 -
公開（公告）號 CN207091544U 公開（公告）日 2018-03-13
申請公布號 CN207091544U 申請公布日 2018-03-13
分類號 C25F7/00;C25F7/02 分類 電解或電泳工藝；其所用設(shè)備〔4〕;
發(fā)明人 喬正山 申請（專利權(quán)）人 新疆西部宏遠(yuǎn)電子有限公司
代理機(jī)構(gòu) 南京瑞弘專利商標(biāo)事務(wù)所（普通合伙） 代理人 徐激波
地址 832000 新疆維吾爾自治區(qū)石河子市北工業(yè)園區(qū)509號小區(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種沉淀及過濾電極箔化成電解槽，包括設(shè)置有進(jìn)水口和出水口的電解槽本體，位于電解槽本體外進(jìn)水口和出水口通過管道連接形成回路，電解槽本體的底面為一傾斜的沉淀板，進(jìn)水口通過過濾腔連接電解槽本體內(nèi)部橫向設(shè)置的疏水管，過濾腔與疏水管相接處設(shè)置有過濾膜，疏水管上依次排布有若干個(gè)噴嘴；電解槽本體內(nèi)噴嘴上方設(shè)置有穩(wěn)水板，電解槽本體頂部搭設(shè)有電解槽支架，電解槽支架上依次設(shè)置有若干個(gè)電極，電極插入電解槽本體中的電解液內(nèi)，電解槽支架上依次排布有若干個(gè)上輥，穩(wěn)水板上依次排布有若干個(gè)下輥；本實(shí)用新型在電解槽的底部設(shè)置有沉淀板，將電解液中的雜質(zhì)沉淀至該沉淀板上，并通過可以開啟的排淤門，將沉淀進(jìn)行定期清理。