一種電極箔化成穩(wěn)水循環(huán)電解槽裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201721029160.4 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN207091526U | 公開（公告）日 | 2018-03-13 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN207091526U | 申請(qǐng)公布日 | 2018-03-13 |
| 分類號(hào) | C25D11/02;C25D7/06;C25D17/02;C25D21/02;C25D21/06 | 分類 | 電解或電泳工藝；其所用設(shè)備〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 喬正山 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 新疆西部宏遠(yuǎn)電子有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 南京瑞弘專利商標(biāo)事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 徐激波 |
| 地址 | 832000 新疆維吾爾自治區(qū)石河子市北工業(yè)園區(qū)509號(hào)小區(qū) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種電極箔化成穩(wěn)水循環(huán)電解槽裝置，包括方向箱體的穩(wěn)水槽，穩(wěn)水槽包括依次相鄰的進(jìn)水槽、溢流槽和電解槽，穩(wěn)水槽外進(jìn)水槽的進(jìn)水口與電解槽的出水口之間通過管道相接形成回路，進(jìn)水槽和溢流槽之間設(shè)置有溢流板，溢流槽和電解槽之間設(shè)置有穩(wěn)水板，電解槽頂面搭設(shè)有電解槽支架，電解槽支架連接有若干個(gè)依次排布的電極，電極插入電解槽的電解液內(nèi)，電解槽支架上還設(shè)置有若干個(gè)依次排布的上輥，電解槽內(nèi)的底板上設(shè)置有若干個(gè)依次排布的下輥，電極箔依次繞過一個(gè)上輥和一個(gè)下輥呈蛇形。本實(shí)用新型采用依次相鄰的進(jìn)水槽、溢流槽和電解槽組成的穩(wěn)水槽，使得電解液在進(jìn)入電解槽時(shí)的水流穩(wěn)定，濃度均勻，從而保證了電解過程的有效進(jìn)行。 |
