一種電極箔化成穩(wěn)水循環(huán)電解槽裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201721029160.4 申請日 -
公開（公告）號 CN207091526U 公開（公告）日 2018-03-13
申請公布號 CN207091526U 申請公布日 2018-03-13
分類號 C25D11/02;C25D7/06;C25D17/02;C25D21/02;C25D21/06 分類 電解或電泳工藝；其所用設(shè)備〔4〕;
發(fā)明人 喬正山 申請（專利權(quán)）人 新疆西部宏遠電子有限公司
代理機構(gòu) 南京瑞弘專利商標(biāo)事務(wù)所（普通合伙） 代理人 徐激波
地址 832000 新疆維吾爾自治區(qū)石河子市北工業(yè)園區(qū)509號小區(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種電極箔化成穩(wěn)水循環(huán)電解槽裝置，包括方向箱體的穩(wěn)水槽，穩(wěn)水槽包括依次相鄰的進水槽、溢流槽和電解槽，穩(wěn)水槽外進水槽的進水口與電解槽的出水口之間通過管道相接形成回路，進水槽和溢流槽之間設(shè)置有溢流板，溢流槽和電解槽之間設(shè)置有穩(wěn)水板，電解槽頂面搭設(shè)有電解槽支架，電解槽支架連接有若干個依次排布的電極，電極插入電解槽的電解液內(nèi)，電解槽支架上還設(shè)置有若干個依次排布的上輥，電解槽內(nèi)的底板上設(shè)置有若干個依次排布的下輥，電極箔依次繞過一個上輥和一個下輥呈蛇形。本實用新型采用依次相鄰的進水槽、溢流槽和電解槽組成的穩(wěn)水槽，使得電解液在進入電解槽時的水流穩(wěn)定，濃度均勻，從而保證了電解過程的有效進行。