電極引入裝置
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201110261064.3 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN102321877B | 公開(公告)日 | 2013-08-07 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN102321877B | 申請(qǐng)公布日 | 2013-08-07 |
分類號(hào) | C23C16/50(2006.01)I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 鄭建宇;宋曉彬;王廣明;桂曉波;楊光;唐亞非 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 北京硅元科電微電子技術(shù)有限責(zé)任公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京路浩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司;北京硅元科電微電子技術(shù)有限責(zé)任公司 |
地址 | 100016 北京市朝陽(yáng)區(qū)酒仙橋東路1號(hào)M2號(hào)樓2層 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備,公開了一種電極引入裝置,其包括兩個(gè)并列設(shè)置的電極支架;每個(gè)電極支架的一端與一個(gè)爐門電極相連,另一端為金屬觸頭,與石墨舟上的電極塊相連;還包括穿過爐門的連接桿,其伸入爐門內(nèi)側(cè)的一端連接石墨舟支撐桿,所述石墨舟支撐桿為至少兩根并列的碳化硅棒。本發(fā)明中,電極引入裝置采用搭接形式,依托電極支架將金屬觸頭直接和爐門電極連接起來,石墨舟上的兩個(gè)石墨墊塊充當(dāng)兩電極塊,每個(gè)金屬觸頭上,與電極塊上凹槽相接觸的位置設(shè)置有凸起,接觸良好,自動(dòng)化程度高;碳化硅雙棒耐溫在1000多度,不易變形,提高電極接觸的穩(wěn)定性;機(jī)械機(jī)構(gòu)簡(jiǎn)單,成本低,裝配難度降低。 |
