一種透明陶瓷基底的高屏效高透光耐溫耐壓屏蔽瞄準(zhǔn)玻璃

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110049485.3 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN112902751A 公開（公告）日 2021-06-04
申請(qǐng)公布號(hào) CN112902751A 申請(qǐng)公布日 2021-06-04
分類號(hào) F41G1/46;F41G11/00;C23C14/35 分類 武器;
發(fā)明人 張貴恩;麻倍之;張立明;廖智祺;彭春波;孫繼偉;王騰 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第三十三研究所
代理機(jī)構(gòu) 太原榮信德知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 楊凱;連慧敏
地址 030032 山西省太原市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)彩虹街1號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及屏蔽瞄準(zhǔn)玻璃領(lǐng)域，具體涉及一種透明陶瓷基底的高屏效高透光耐溫耐壓屏蔽瞄準(zhǔn)玻璃。包括透明陶瓷基底、光子帶隙結(jié)構(gòu)層與減反膜系結(jié)構(gòu)層，所述透明陶瓷基底采用鎂鋁尖晶石透明陶瓷制備，所述光子帶隙結(jié)構(gòu)層Ag?ITO?Ag多層膜結(jié)構(gòu)，通過多靶磁控濺射鍍膜技術(shù)附著在透明陶瓷基底的一側(cè)，所述減反膜系結(jié)構(gòu)層包括由Nb2O5與SiO2通過多靶磁控濺射鍍膜技術(shù)迭代附著在光子帶隙結(jié)構(gòu)層上。本發(fā)明設(shè)計(jì)巧妙，結(jié)構(gòu)新穎且強(qiáng)度高、厚度薄，從根本上填補(bǔ)了彈載瞄準(zhǔn)玻璃的空缺，適合廣泛地推廣應(yīng)用。