商標(biāo)進(jìn)度

商標(biāo)申請

2017-11-28

初審公告

2019-01-13

已注冊

2019-04-14

4

終止

2029-04-13

商標(biāo)詳情

商標(biāo)
H
商標(biāo)名稱 H-EPI 商標(biāo)狀態(tài) 商標(biāo)已注冊
申請日期 2017-11-28 申請/注冊號 27736091
國際分類 09類-科學(xué)儀器 是否共有商標(biāo) 否
申請人名稱（中文） 江蘇華興激光科技有限公司 申請人名稱（英文） -
申請人地址（中文） 邳州經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)遼河西路北側(cè)、華山北路西側(cè) 申請人地址（英文） -
商標(biāo)類型 商標(biāo)注冊申請---注冊證發(fā)文 商標(biāo)形式 -
初審公告期號 1631 初審公告日期 2019-01-13
注冊公告期號 27736091 注冊公告日期 2019-04-14
優(yōu)先權(quán)日期 - 代理/辦理機(jī)構(gòu) 北京安杰律師事務(wù)所
國際注冊日 - 后期指定日期 -
專用權(quán)期限 2019-04-14-2029-04-13
商標(biāo)公告 -
商品/服務(wù)
硅外延片(0913)
半導(dǎo)體測試設(shè)備()
結(jié)構(gòu)化半導(dǎo)體晶片()
半導(dǎo)體存儲器()
電子半導(dǎo)體(0913)
半導(dǎo)體器件(0913)
半導(dǎo)體光放大器()
電子芯片(0913)
半導(dǎo)體(0913)
半導(dǎo)體晶片()
半導(dǎo)體測試設(shè)備(0910)
半導(dǎo)體晶片(0913)
結(jié)構(gòu)化半導(dǎo)體晶片(0913)
半導(dǎo)體光放大器(0913)
商標(biāo)流程
2017-11-28

商標(biāo)注冊申請---申請收文

2018-01-16

商標(biāo)注冊申請---等待受理通知書發(fā)文