一種真空熔煉爐的加料裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202022061549.5 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN213421820U | 公開(公告)日 | 2021-06-11 |
申請公布號 | CN213421820U | 申請公布日 | 2021-06-11 |
分類號 | F27B14/16;F27D3/00 | 分類 | 爐;窯;烘烤爐;蒸餾爐〔4〕; |
發(fā)明人 | 羅涵 | 申請(專利權(quán))人 | 沈陽金納新材料股份有限公司 |
代理機構(gòu) | 沈陽新科知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) | 代理人 | 史衛(wèi)民 |
地址 | 110170 遼寧省沈陽市渾南區(qū)蘭臺路12-1號(1-2層) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型公開了一種真空熔煉爐的加料裝置,包括上蓋,所述上蓋的下側(cè)安裝有加料裝置,上蓋的下側(cè)安裝有電機,電機連接螺紋絲桿,螺紋絲桿上滑動連接有兩滑塊,滑塊關(guān)于加料裝置左右對稱設(shè)置,滑塊的下側(cè)鉸接有剪式架,剪式架的下側(cè)滑動連接在導(dǎo)槽內(nèi),導(dǎo)槽位于內(nèi)筒的上側(cè),導(dǎo)槽的一側(cè)設(shè)有進料口,所述進料口正對加料裝置,對下料進行承接,內(nèi)筒的外側(cè)轉(zhuǎn)動連接有外筒,外筒和內(nèi)筒的下側(cè)均設(shè)有圓周分布的下料孔,外筒的內(nèi)部固定連接有轉(zhuǎn)軸一,本實用新型通過將原料直接伸入坩堝內(nèi),并對坩堝的上端進行遮擋,有效的防止下料時產(chǎn)生的飛濺,并通過設(shè)置的螺旋導(dǎo)向槽、內(nèi)筒和外筒,保證下料干凈,保證每次的下料精確,可進行二次下料。 |
