高過載背壓式絕壓傳感器模塊及其制造工藝
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201310642617.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN103674397B | 公開(公告)日 | 2016-04-20 |
申請公布號 | CN103674397B | 申請公布日 | 2016-04-20 |
分類號 | G01L9/02(2006.01)I;B81B3/00(2006.01)I;B81C1/00(2006.01)I | 分類 | 測量;測試; |
發(fā)明人 | 沈紹群;羅小勇 | 申請(專利權(quán))人 | 新會康宇測控儀器儀表工程有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 廣州嘉權(quán)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 | 代理人 | 新會康宇測控儀器儀表工程有限公司;上海旦宇傳感器科技有限公司;廣東和宇傳感器有限公司 |
地址 | 529100 廣東省江門市新會區(qū)會城西門路圭峰高科技園 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了高過載背壓式絕壓傳感器模塊,包括蓋板、硅芯片以及金屬基座,硅芯片上設(shè)置有硅彈性膜區(qū),蓋板與硅芯片的正面密封連接,蓋板上設(shè)置有背腔形成絕壓真空腔,所述硅彈性膜區(qū)位于該絕壓真空腔中,絕壓真空腔內(nèi)的鋁引線與腔外的鋁熱壓腳電連接,硅芯片背面與金屬基座連接,金屬基座上設(shè)置有容置外部被測介質(zhì)的通道,硅芯片的背面對應(yīng)通道設(shè)置有背腔區(qū),背腔區(qū)與所述硅彈性膜區(qū)對應(yīng),所述背腔內(nèi)朝向硅芯片的正面延伸出有限位島,該限位島與所述硅芯片的硅彈性膜區(qū)之間存在限位間隙,實(shí)現(xiàn)了背壓式絕壓傳感器的高過載性能,結(jié)構(gòu)簡單,過載能力大,實(shí)施成本低廉,很好的適應(yīng)了國內(nèi)外對壓敏傳感器的需求。 |
