一種具有參比端的二極管陣列檢測(cè)器及控制方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202111490197.8 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN114200068A | 公開(公告)日 | 2022-03-18 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN114200068A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-03-18 |
分類號(hào) | G01N30/74(2006.01)I | 分類 | 測(cè)量;測(cè)試; |
發(fā)明人 | 封嬌;馬周;韓晶;楊三東;王豐琳;唐濤;李彤 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 大連依利特分析儀器有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京精金石知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 劉俊玲 |
地址 | 116023遼寧省大連市高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)園區(qū)七賢嶺學(xué)子街2號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種具有參比端的二極管陣列檢測(cè)器及控制方法,涉及檢測(cè)領(lǐng)域,包括光源發(fā)出的光線經(jīng)反射鏡出射后依次入射至石英窗口和分光鏡,入射至分光鏡的光線一部分經(jīng)過光闌反射至參比端光電測(cè)量機(jī)構(gòu)處,一部分光線經(jīng)分光鏡直接透射聚焦于樣品池中心;經(jīng)過樣品池出射的光利用超環(huán)面鏡匯聚到狹縫處,通過狹縫的光線經(jīng)凹面平場(chǎng)光柵的分光形成光譜并被二極管陣列探測(cè)器接收光譜的光強(qiáng)信息。本發(fā)明利用分光鏡及參比端光電測(cè)量機(jī)構(gòu),通過開機(jī)自檢自動(dòng)化控制二極管陣列探測(cè)器的曝光時(shí)間,以及風(fēng)機(jī)電壓的實(shí)時(shí)控制,解決了二極管陣列檢測(cè)器開機(jī)自檢受到樣品池干擾等問題。 |
