金屬化膜及金屬化薄膜電容器
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110393018.2 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN113314341A | 公開（公告）日 | 2021-08-27 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN113314341A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-08-27 |
| 分類號(hào) | H01G4/33（2006.01）I;H01G4/32（2006.01）I;H01G4/015（2006.01）I;H01G4/14（2006.01）I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 陳淵偉;鄭建林;張聰慧 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 廈門法拉電子股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 廈門創(chuàng)象知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 陳文戎 |
| 地址 | 361022福建省廈門市海滄區(qū)新園路99號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種金屬化膜和金屬化薄膜電容器，其中金屬化膜包括：有機(jī)薄膜層、高方阻層和多根加厚筋條；其中，所述有機(jī)薄膜層的寬度大于所述高方阻層的寬度，以通過所述有機(jī)薄膜層與所述高方阻層之間的寬度差值設(shè)置無鍍層區(qū)域；所述高方阻層蒸鍍?cè)谒鲇袡C(jī)薄膜層一側(cè)，所述多根加厚筋條間隔分布在所述高方阻層相對(duì)于所述有機(jī)薄膜層的另一側(cè)；能夠有效提高金屬化膜制作得到金屬化薄膜電容器的層間氣隙量；防止其自愈時(shí)因?qū)娱g氣隙小而導(dǎo)致自愈不完全發(fā)生短路；保障金屬化薄膜電容器的使用安全性。 |
