一種芯片銅互聯(lián)高純硫酸銅電鍍液的生產(chǎn)方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN200610025947.3 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN101058892A | 公開(公告)日 | 2007-10-24 |
申請公布號 | CN101058892A | 申請公布日 | 2007-10-24 |
分類號 | C25D3/38(2006.01) | 分類 | 電解或電泳工藝;其所用設備〔4〕; |
發(fā)明人 | 孫江燕;欒善東;郁祖湛 | 申請(專利權(quán))人 | 上海新科投資有限公司 |
代理機構(gòu) | 上海世貿(mào)專利代理有限責任公司 | 代理人 | 上海新陽電子科技發(fā)展有限公司;上海新陽半導體材料股份有限公司 |
地址 | 201803上海市嘉定區(qū)江橋工業(yè)園高潮路328號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明一種芯片銅互聯(lián)高純硫酸銅電鍍液的生產(chǎn)方法,首先包括一個電解的步驟:在電解的過程中,采用一個電解槽,電解槽內(nèi)設置有陽極和陰極,陽極采用電解銅板,陰極采用鉑板,在陰極和陽極的中間用單向膜隔開,電解槽中采用硫酸作電解液,用電化學方法溶解金屬銅;其次,包括一個超級過濾純化的步驟,得到金屬雜質(zhì)總量小于10PPM,有機雜質(zhì)含量小于10PPM的高純度硫酸銅混合鍍液。本發(fā)明是采用電化學與膜技術(shù)相結(jié)合的純化方法,通過調(diào)節(jié)工藝參數(shù),再結(jié)合半導體超純凈化和超濾技術(shù),使產(chǎn)品的其它指標得以控制,產(chǎn)品無蒸發(fā)結(jié)晶提純,直接制得合格的銅互聯(lián)高純硫酸銅電鍍液。 |
