Cu2O/TiO2納米復(fù)合薄膜的制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201310013497.6 申請日 -
公開（公告）號 CN103088343B 公開（公告）日 2016-08-10
申請公布號 CN103088343B 申請公布日 2016-08-10
分類號 C23C28/04(2006.01)I;C23C26/00(2006.01)I;C25D9/04(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I;B82Y30/00(2011.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 余曉皎;黃琳珠;張健;張阿曼;張帆;鈕金芬;姚秉華 申請（專利權(quán)）人 杭州坤瑞格拉威寶科技有限公司
代理機構(gòu) 西安弘理專利事務(wù)所 代理人 西安理工大學(xué);杭州坤瑞格拉威寶科技有限公司
地址 710048 陜西省西安市金花南路5號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 Cu2O/TiO2納米復(fù)合薄膜，包括導(dǎo)電玻璃基底，導(dǎo)電玻璃基底上覆有納米TiO2薄膜和納米Cu2O薄膜。其制備方法為以導(dǎo)電玻璃為基底，先采用浸漬-提拉法涂上一層TiO2膠體溶液，形成TiO2納米層，然后再采用電沉積法沉積Cu2O納米層。本發(fā)明Cu2O/TiO2納米復(fù)合薄膜，提高了能量轉(zhuǎn)換效率，增強了Cu2O晶體的致密性，提高納米Cu2O/TiO2薄膜在400～570nm范圍內(nèi)可見光吸收率。