一種N型單晶雙面電池的制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201610759745.5 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN106299027B | 公開(公告)日 | 2017-12-01 |
申請公布號 | CN106299027B | 申請公布日 | 2017-12-01 |
分類號 | H01L31/18(2006.01)I;H01L31/0236(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 勵小偉;梁海;賴儒丹;周濤銘;胡巧;張小明 | 申請(專利權(quán))人 | 寧波樂豐新能源有限公司 |
代理機構(gòu) | 寧波市鄞州甬致專利代理事務所(普通合伙) | 代理人 | 沈錫倍 |
地址 | 315700 浙江省寧波市象山縣泗洲頭鎮(zhèn)工業(yè)園區(qū) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種成片率高且光電轉(zhuǎn)換效率好的N型單晶雙面電池的制備方法,包括如下步驟:硅片正面制絨后進行B擴散,正面制絨具體為:先用激光在硅片正面形成金字塔結(jié)構(gòu),氮氣清潔干凈后,加熱硅片到70°~80°,利用超聲波霧化在硅片正面沉積NaOH小液滴,經(jīng)過2~4分鐘腐蝕后形成金字塔絨面結(jié)構(gòu);進行濕法蝕刻,去除硅片背面、邊緣形成的自擴散層,然后沉積SiNX掩膜;對硅片背面進行P擴散后,等離子蝕刻邊緣的自擴散層,并用腐蝕液進行清洗,去除表面SiNX掩膜層和磷硅玻璃層;利用ALD方式形成硅片正面Al2O3鈍化膜,并在硅片正面沉積SiNX保護膜、在硅片背面沉積SiNX減反膜;在絲網(wǎng)印刷形成電極進行燒結(jié)。 |
