一種高靶材利用率的矩形磁控濺射陰極

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201920354917.X 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN209974874U 公開(kāi)（公告）日 2020-01-21
申請(qǐng)公布號(hào) CN209974874U 申請(qǐng)公布日 2020-01-21
分類號(hào) C23C14/35 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 王志剛;張奇龍;王連之;李偉 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 中核包頭核燃料元件股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 014030 內(nèi)蒙古自治區(qū)包頭市青山區(qū)烏素圖
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及磁控濺射陰極，公開(kāi)了一種高靶材利用率的矩形磁控濺射陰極，其核心部件為磁鋼組和磁軛組成的磁路模塊，磁鋼組通過(guò)磁力與磁軛連接，磁路模塊包括兩個(gè)磁鋼組，兩個(gè)磁鋼組內(nèi)的磁鋼數(shù)量相同且左右對(duì)稱分布，每側(cè)的磁鋼組包括磁路互相閉合的兩列磁鋼且兩列磁鋼的磁場(chǎng)方向相互垂直。本實(shí)用新型提供的磁路結(jié)構(gòu)使得磁場(chǎng)提供更多的與靶材平行的磁場(chǎng)分量，能夠?qū)Π忻孢M(jìn)行更大面積的刻蝕，提升了靶材利用率，避免頻繁更換靶材，降低開(kāi)真空室的次數(shù)，既可以保證生產(chǎn)的連續(xù)性，提高工作效率，也可以改善產(chǎn)品的潔凈度；此外，通過(guò)水路進(jìn)行降溫，可以有效的避免靶材被熔化。