一種輻射加熱系統(tǒng)
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202022473882.7 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN213335610U | 公開(公告)日 | 2021-06-01 |
申請公布號 | CN213335610U | 申請公布日 | 2021-06-01 |
分類號 | F27D99/00(2010.01)I;F27D17/00(2006.01)I | 分類 | 爐;窯;烘烤爐;蒸餾爐〔4〕; |
發(fā)明人 | 董泊寧;習(xí)朋歡;馮蕾;徐東明 | 申請(專利權(quán))人 | 西安銀研鎂業(yè)裝備有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京酷愛智慧知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 陳巍 |
地址 | 710061陜西省西安市曲江新區(qū)西影路46號芙蓉名座11402室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型涉及一種輻射加熱系統(tǒng),用于為煅燒窯輻射加熱,該煅燒窯包括爐體,在該爐體內(nèi)設(shè)置有物料通道,所述物料通道包括若干上下布置的第一通道,和若干上下布置的第二通道,所述第一通道和第二通道均向下傾斜設(shè)置,且所述第一通道和第二通道在所述爐體的高度方向上交錯布置;所述輻射加熱系統(tǒng)包括若干第一輻射熱源和若干第二輻射熱源,若干所述第一輻射熱源與若干所述第一通道一一對應(yīng),若干所述第二輻射熱源與若干所述第二通道一一對應(yīng),且所述第一輻射熱源和第二輻射熱源可分別輻射覆蓋相應(yīng)的第一通道和第二通道。本實用新型可以使得物料通道完全被輻射覆蓋,使得小顆粒石灰石受熱均勻。?? |
