一種工業(yè)低頻降噪裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202120013551.7 申請日 -
公開（公告）號 CN213935635U 公開（公告）日 2021-08-10
申請公布號 CN213935635U 申請公布日 2021-08-10
分類號 G10K11/16（2006.01）I;G10K11/162（2006.01）I;F04B39/12（2006.01）I;F04B39/00（2006.01）I;H02K5/24（2006.01）I;H02K5/04（2006.01）I;H02B1/26（2006.01）I 分類 樂器；聲學(xué);
發(fā)明人 何琴;胥鋒;李紅斌;錢秀清;李雨坪;陳鵬;黃昱婷;侯小利;彭薪旭;李卓彥;張銀;石云;鄧杰;胡廣義;沈夢龍;許洋 申請（專利權(quán)）人 四川中澤油田技術(shù)服務(wù)有限責(zé)任公司
代理機構(gòu) 成都中絡(luò)智合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 喻依豐
地址 610000四川省成都市高新區(qū)吉泰五路88號3棟36層8號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請涉及降噪設(shè)備領(lǐng)域，公開了一種工業(yè)低頻降噪裝置，用于罩設(shè)在聲源外降噪，包括罩設(shè)在聲源外的殼體，所述殼體相對兩面上沿一條軸線分別設(shè)有通氣孔，所述通氣孔內(nèi)設(shè)有通氣組件；所述殼體包括由內(nèi)而外設(shè)置分別利用材料和空氣與低頻聲波共振消減噪音能量的低頻共振層和吸音空腔，以及用于吸收噪音的吸聲層。本申請將罩設(shè)在噪音來源外的殼體設(shè)置為能針對性處理低頻噪音的多層機構(gòu)，利用低頻共振層、吸音空腔和吸聲層的配合消耗吸收低頻噪音能量，達(dá)到顯著的降噪效果。