一種去除萃取溶劑的裝置及方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201610812028.4 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN106328863B | 公開(公告)日 | 2021-07-13 |
申請公布號 | CN106328863B | 申請公布日 | 2021-07-13 |
分類號 | H01M50/403 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 李旦;高東波;陳良 | 申請(專利權(quán))人 | 深圳市星源材質(zhì)科技股份有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京超凡志成知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙) | 代理人 | 覃蛟 |
地址 | 518000 廣東省深圳市光明新區(qū)公明辦事處田園路北 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種去除萃取溶劑的裝置及方法,該裝置包括傳動鋼輥一、傳動鋼輥二、傳動鋼輥三、壓輥和萃取槽,所述萃取槽上安裝有超聲波振動器,所述傳動鋼輥二與傳動鋼輥三之間安裝有鋁輥,所述壓輥的外側(cè)安裝有傳動鋼輥四。一種去除萃取溶劑的方法,主要包括以下步驟:將萃取溶劑裝入萃取槽內(nèi);啟動超聲波振動器,萃取槽內(nèi)產(chǎn)生超聲波振動;薄膜在傳動鋼輥一的帶動下進入萃取槽;薄膜經(jīng)過超聲波溶劑萃取,在傳動鋼輥二的帶動下移出萃取槽;薄膜通過傳動鋼輥三和壓輥時,溶劑被去除。本發(fā)明能夠有效地改善去除萃取溶劑的效果,避免萃取溶劑的浪費,減少了環(huán)境污染,同時改善了微孔膜的質(zhì)量。 |
