一種蒸鍍復(fù)合金屬膜層用的子母坩堝裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201710695440.7 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN107267923B | 公開(公告)日 | 2019-05-17 |
申請公布號 | CN107267923B | 申請公布日 | 2019-05-17 |
分類號 | C23C14/24(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 應(yīng)世強; 尹忠樂; 李術(shù)杰 | 申請(專利權(quán))人 | 佛山市南海區(qū)晶鼎泰智能科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 廣州科粵專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | 佛山市南海區(qū)晶鼎泰智能科技有限公司 |
地址 | 528200 廣東省佛山市南海區(qū)獅山鎮(zhèn)獅中村貝奇科技工業(yè)園自編1號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明開發(fā)了一種蒸鍍復(fù)合金屬膜層用的子母坩堝裝置,包括基座,其特征是:在基座上設(shè)有母坩堝和若干個子坩堝模塊;所述基座上預(yù)留有母坩堝安裝槽,所述母坩堝安裝在所述母坩堝安裝槽中;所述的若干個子坩堝模塊是圍繞母坩堝的外輪廓均布在基座上的;每個所述的子坩堝模塊包括子坩堝底座、子坩堝、電子槍和驅(qū)動缸;所述子坩堝底座鉸接在所述基座的表面;所述子坩堝和電子槍均固定在所述子坩堝底座表面,所述驅(qū)動缸的推桿連接在所述子坩堝的底部;所述子坩堝可相對基座在母坩堝的外周上方翻轉(zhuǎn);每個所述的子坩堝與母坩堝之間均設(shè)有傾斜于基座的表面設(shè)置的引流槽。該發(fā)明具有制備高效、膜層均勻和人成本低等優(yōu)點。 |
