一種質(zhì)譜離子源裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202020844210.X | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN212113620U | 公開(kāi)（公告）日 | 2020-12-08 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN212113620U | 申請(qǐng)公布日 | 2020-12-08 |
| 分類(lèi)號(hào) | H01J49/16(2006.01)I | 分類(lèi) | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 汪曉萍;方紅英;錢(qián)榴源;丁春旭;吳蘭;季煒;孫子游 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 美康盛德醫(yī)療科技（蘇州）有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 蘇州知途知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 美康盛德醫(yī)療科技（蘇州）有限公司 |
| 地址 | 215000江蘇省蘇州市高新區(qū)科技城錦峰路8號(hào)3號(hào)樓301室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申請(qǐng)涉及一種質(zhì)譜離子源裝置，包括：離子源，用于噴射出液態(tài)樣品的中性分子，并對(duì)加熱汽化后的中性分子釋放電荷，使加熱汽化后的中性分子帶上電荷后轉(zhuǎn)化成帶電離子；質(zhì)譜入口，用于接收離子源產(chǎn)生的噴霧，質(zhì)譜入口的外部具有離子吹掃擋錐，離子吹掃擋錐的錐面具有切面；切面為平面，從離子吹掃擋錐的錐面的頂部延伸到底部邊緣；離子源的噴出方向與切面平行。本實(shí)用新型的有益效果是：離子吹掃擋錐設(shè)有不對(duì)稱(chēng)切面，多余的溶劑噴霧直接快速排除到傳輸通道下方的不對(duì)稱(chēng)切面，大大減少傳輸孔下方的基質(zhì)的堆積，減少離子源的維護(hù)周期。?? |
