一種化學(xué)氣相沉積裝置中的霧化結(jié)構(gòu)
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202021177952.8 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN212713750U | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-03-16 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN212713750U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-03-16 |
| 分類號(hào) | C23C16/455(2006.01)I;C23C16/54(2006.01)I;C23C16/448(2006.01)I;C23C16/56(2006.01)I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 楊毅敏;李鵬;周晴 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 杭州英希捷科技有限責(zé)任公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 杭州融方專利代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 沈相權(quán) |
| 地址 | 311215浙江省杭州市蕭山區(qū)蕭山經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)啟迪路198號(hào)C座1303室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種化學(xué)氣相沉積裝置中的霧化結(jié)構(gòu)，包括工作臺(tái)、漏槽、支柱和伺服電機(jī)，所述工作臺(tái)頂端的一側(cè)固定連接有主殼體，且主殼體兩側(cè)的內(nèi)部皆設(shè)置有第二開(kāi)槽，所述主殼體內(nèi)側(cè)的兩端皆固定連接有輔助結(jié)構(gòu)，所述主殼體外部頂端的一側(cè)固定連接有控制器，所述主殼體底端內(nèi)部的中間位置處均勻設(shè)置有漏槽，所述工作臺(tái)底端的一側(cè)固定連接有霧化機(jī)構(gòu)，所述工作臺(tái)頂端的另一側(cè)固定連接有烘干機(jī)構(gòu)，所述工作臺(tái)底端的四個(gè)拐角處皆固定連接有支柱。本實(shí)用新型通過(guò)在工作臺(tái)底端的一側(cè)固定連接有霧化機(jī)構(gòu)，此種噴灑方式既使得兩面均勻覆蓋霧液，若主殼體內(nèi)部的霧氣過(guò)重也可通過(guò)主殼體底端內(nèi)部的漏槽流入水箱，以供其循環(huán)使用，避免浪費(fèi)。?? |
