一種化學氣相沉積裝置中的霧化結(jié)構(gòu)
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202021177952.8 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN212713750U | 公開（公告）日 | 2021-03-16 |
| 申請公布號 | CN212713750U | 申請公布日 | 2021-03-16 |
| 分類號 | C23C16/455(2006.01)I;C23C16/54(2006.01)I;C23C16/448(2006.01)I;C23C16/56(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 楊毅敏;李鵬;周晴 | 申請（專利權(quán)）人 | 杭州英希捷科技有限責任公司 |
| 代理機構(gòu) | 杭州融方專利代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 沈相權(quán) |
| 地址 | 311215浙江省杭州市蕭山區(qū)蕭山經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)啟迪路198號C座1303室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實用新型公開了一種化學氣相沉積裝置中的霧化結(jié)構(gòu)，包括工作臺、漏槽、支柱和伺服電機，所述工作臺頂端的一側(cè)固定連接有主殼體，且主殼體兩側(cè)的內(nèi)部皆設(shè)置有第二開槽，所述主殼體內(nèi)側(cè)的兩端皆固定連接有輔助結(jié)構(gòu)，所述主殼體外部頂端的一側(cè)固定連接有控制器，所述主殼體底端內(nèi)部的中間位置處均勻設(shè)置有漏槽，所述工作臺底端的一側(cè)固定連接有霧化機構(gòu)，所述工作臺頂端的另一側(cè)固定連接有烘干機構(gòu)，所述工作臺底端的四個拐角處皆固定連接有支柱。本實用新型通過在工作臺底端的一側(cè)固定連接有霧化機構(gòu)，此種噴灑方式既使得兩面均勻覆蓋霧液，若主殼體內(nèi)部的霧氣過重也可通過主殼體底端內(nèi)部的漏槽流入水箱，以供其循環(huán)使用，避免浪費。?? |
