用于連續(xù)生長碳納米管陣列的卷對卷化學(xué)氣相沉積裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202021176694.1 申請日 -
公開(公告)號(hào) CN212769880U 公開(公告)日 2021-03-23
申請公布號(hào) CN212769880U 申請公布日 2021-03-23
分類號(hào) C01B32/164(2017.01)I 分類 無機(jī)化學(xué);
發(fā)明人 威廉·愛爾蘭·米爾恩;駱季奎;汪小知 申請(專利權(quán))人 杭州英希捷科技有限責(zé)任公司
代理機(jī)構(gòu) 杭州融方專利代理事務(wù)所(普通合伙) 代理人 沈相權(quán)
地址 311215浙江省杭州市蕭山區(qū)蕭山經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)啟迪路198號(hào)C座1303室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了用于連續(xù)生長碳納米管陣列的卷對卷化學(xué)氣相沉積裝置,包括真空箱,所述真空箱內(nèi)腔底部的兩側(cè)活動(dòng)連接有卷出輥,所述真空箱內(nèi)腔的頂部和底部之間活動(dòng)連接有張力調(diào)節(jié)組件,張力調(diào)節(jié)組件包括兩個(gè)活動(dòng)輥,兩個(gè)活動(dòng)輥的頂部和底部均固定連接有固定板,真空箱的頂部固定連接有密封件,密封件的底部貫穿真空箱并延伸至真空箱的內(nèi)部,本實(shí)用新型涉及碳納米管技術(shù)領(lǐng)域。該用于連續(xù)生長碳納米管陣列的卷對卷化學(xué)氣相沉積裝置,通過在活動(dòng)輥的頂部和底部設(shè)置固定板,配合轉(zhuǎn)動(dòng)套內(nèi)的轉(zhuǎn)動(dòng)桿和調(diào)節(jié)桿,再利用固定板的轉(zhuǎn)動(dòng)關(guān)系,能夠?qū)顒?dòng)輥的位置進(jìn)行調(diào)節(jié),從而能夠?qū)埩M(jìn)行控制,此結(jié)構(gòu)較為簡單,操作方便,易于推廣。??