一種提升GaN基綠光LED發(fā)光效率的外延層

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202021779195.1 申請(qǐng)日 -
公開(公告)號(hào) CN214043696U 公開(公告)日 2021-08-24
申請(qǐng)公布號(hào) CN214043696U 申請(qǐng)公布日 2021-08-24
分類號(hào) H01L33/12(2010.01)I;H01L33/14(2010.01)I;H01L33/06(2010.01)I;H01L33/32(2010.01)I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 徐良;劉建哲;李昌勛;孫海定;郭煒;李京波 申請(qǐng)(專利權(quán))人 黃山博藍(lán)特半導(dǎo)體科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 蕪湖眾匯知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 代理人 曹宏筠
地址 245000安徽省黃山市黃山九龍低碳經(jīng)濟(jì)園區(qū)翠薇北路66號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種提升GaN基綠光LED發(fā)光效率的外延層,包括襯底,依次疊加設(shè)置在襯底上的AlN緩沖層、U型GaN層、N型GaN層、多量子阱、電子阻擋層、P型GaN層以及金屬接觸層;所述多量子阱包括若干對(duì)GaN層和InGaN層交替堆疊的周期性結(jié)構(gòu)及設(shè)置在周期性結(jié)構(gòu)上的量子壘層,所述量子壘層包括非故意摻雜GaN層﹑超晶格層以及設(shè)置在超晶格層上的P型InGaN層;所述超晶格層包括若干對(duì)交替堆疊的非故意摻雜的InxGa1?xN和非故意摻雜的AlyGa1?xN。本實(shí)用新型中的多量子阱中的量子壘層,能夠有效減輕LQB附近的能帶彎曲,降低阱壘層極化效應(yīng),提高GaN基綠光LED發(fā)光效率,可廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體照明技術(shù)領(lǐng)域。