高浪涌電流型SiC二極管
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202022345163.7 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN212810312U | 公開(kāi)(公告)日 | 2021-03-26 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN212810312U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-03-26 |
分類號(hào) | H01L29/861;H01L29/16;H01L29/06 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 張振中;郝建勇;孫軍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 杭州中瑞宏芯半導(dǎo)體有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 杭州新源專利事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 鄭雙根 |
地址 | 311121 浙江省杭州市余杭區(qū)倉(cāng)前街道倉(cāng)興路1號(hào)7幢708-4室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種高浪涌電流型SiC二極管,包括SiC襯底(1),SiC襯底(1)表面設(shè)有深P?grid層(2),深P?grid層(2)外部設(shè)有淺P+grid層(3)。本實(shí)用新型通過(guò)在SiC襯底表面形成的淺P+grid層,能夠替代現(xiàn)有SiC二極管中的Ni?Ohmic層起到提高正向浪涌電流的效果;同時(shí)通過(guò)淺P+grid層和深P?grid層的配合可以使本實(shí)用新型在加工時(shí)無(wú)需增設(shè)新的光刻工藝,進(jìn)而相比現(xiàn)有的SiC二極管能夠減少一道光罩?jǐn)?shù)量,具有生產(chǎn)周期短、生產(chǎn)成本低和正向浪涌電流高的特點(diǎn)。 |
