一種半導(dǎo)體器件及其制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202011635294.7 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114695535A | 公開(公告)日 | 2022-07-01 |
申請公布號 | CN114695535A | 申請公布日 | 2022-07-01 |
分類號 | H01L29/423(2006.01)I;H01L29/20(2006.01)I;H01L29/778(2006.01)I;H01L21/335(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 李元 | 申請(專利權(quán))人 | 蘇州能訊高能半導(dǎo)體有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京品源專利代理有限公司 | 代理人 | - |
地址 | 215300江蘇省蘇州市昆山市高新區(qū)晨豐路18號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種半導(dǎo)體器件及其制備方法,該半導(dǎo)體器件包括有源區(qū);該半導(dǎo)體器件還包括襯底;電極結(jié)構(gòu),位于襯底一側(cè)且位于有源區(qū),電極結(jié)構(gòu)包括多個(gè)柵極以及與所述柵極相鄰設(shè)置的多個(gè)相鄰電極;介質(zhì)層,位于電極結(jié)構(gòu)遠(yuǎn)離襯底的一側(cè),介質(zhì)層覆蓋電極結(jié)構(gòu);多個(gè)柵極鍵合盤,每個(gè)柵極鍵合盤至少部分位于有源區(qū)且與相鄰電極在襯底所在平面上的垂直投影部分重合,且每個(gè)柵極鍵合盤還至少包括位于介質(zhì)層遠(yuǎn)離襯底一側(cè)的部分,柵極鍵合盤與柵極電連接。本發(fā)明提供的半導(dǎo)體器件,將至少部分柵極鍵合盤設(shè)置于有源區(qū),可大大減小無源區(qū)的面積,從而減小半導(dǎo)體器件的整體面積,提高半導(dǎo)體器件的集成度,進(jìn)而大大降低芯片的成本。 |
