一種半導體器件及其制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202011599595.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114695532A | 公開(公告)日 | 2022-07-01 |
申請公布號 | CN114695532A | 申請公布日 | 2022-07-01 |
分類號 | H01L29/423(2006.01)I;H01L29/778(2006.01)I;H01L21/335(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 宋晰;韓鵬宇;王慧琴 | 申請(專利權)人 | 蘇州能訊高能半導體有限公司 |
代理機構 | 北京品源專利代理有限公司 | 代理人 | - |
地址 | 215300江蘇省蘇州市昆山市高新區(qū)晨豐路18號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明實施例公開了一種半導體器件及其制備方法,半導體器件包括有源區(qū)和無源區(qū);半導體器件還包括:位于襯底一側的源極、柵極和漏極,柵極位于源極和漏極之間;柵極包括第一端部和中間部,中間部、源極和漏極均位于有源區(qū),第一端部位于無源區(qū);第一端部包括第一子端部和第二子端部;沿第一方向,第一子端部的延伸寬度大于中間部的延伸寬度,第二子端部的延伸寬度大于第一子端部的延伸寬度;第一方向與源極指向漏極的方向平行。通過增大柵極端部的延伸寬度,增加柵極端部金屬與襯底的接觸面積,提高了器件封裝效率,保證了柵極結構穩(wěn)定、性能穩(wěn)定,進一步提高半導體器件的工作穩(wěn)定性和可靠性。 |
