一種薄膜缺陷噴碼補(bǔ)噴處理方法及處理系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111394495.7 申請日 -
公開（公告）號 CN113978139A 公開（公告）日 2022-01-28
申請公布號 CN113978139A 申請公布日 2022-01-28
分類號 B41J3/407（2006.01）I;B41J2/01（2006.01）I;B41J29/393（2006.01）I 分類 印刷；排版機(jī)；打字機(jī)；模印機(jī)〔4〕;
發(fā)明人 田霖 申請（專利權(quán)）人 深圳市盛波光電科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 深圳市科吉華烽知識產(chǎn)權(quán)事務(wù)所（普通合伙） 代理人 胡吉科
地址 518000廣東省深圳市坪山新區(qū)大工業(yè)區(qū)青松路8號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種薄膜缺陷噴碼補(bǔ)噴處理方法及處理系統(tǒng)，該方法包括：缺陷坐標(biāo)處理，檢測噴碼缺陷，看是否存在光學(xué)檢測設(shè)備過載的區(qū)域，是否存在噴碼機(jī)來不及噴碼的區(qū)域，是否存在缺陷成團(tuán)簇狀尺寸較大的區(qū)域，并對應(yīng)處理為響應(yīng)的缺陷坐標(biāo)；在薄膜邊緣一側(cè)以設(shè)定間隔距離噴二維碼進(jìn)行坐標(biāo)定位，所述二維碼的內(nèi)容對應(yīng)卷料信息和與上一個二維碼之間間隔段的缺陷坐標(biāo)信息；對缺陷坐標(biāo)進(jìn)行處理，得到補(bǔ)噴缺陷列表；坐標(biāo)轉(zhuǎn)換處理，下工序讀取二維碼，每讀取一個二維碼，提取出對應(yīng)的缺陷坐標(biāo)，進(jìn)行坐標(biāo)轉(zhuǎn)換，轉(zhuǎn)換成補(bǔ)噴噴碼坐標(biāo)；進(jìn)行補(bǔ)噴。采用本發(fā)明的技術(shù)方案，可以將噴碼率從98%提升到100%；避免人力物力的浪費(fèi)，降低了客訴的風(fēng)險。