一種低收縮高耐久型染料系偏光片及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111214172.5 申請日 -
公開（公告）號 CN114002770A 公開（公告）日 2022-02-01
申請公布號 CN114002770A 申請公布日 2022-02-01
分類號 G02B5/30（2006.01）I;G02B1/14（2015.01）I;C08J7/00（2006.01）I;C08L29/04（2006.01）I;C09J7/29（2018.01）I;B32B27/32（2006.01）I;B32B27/06（2006.01）I;B32B7/12（2006.01）I;B32B37/12（2006.01）I;B32B38/16（2006.01）I 分類 光學;
發(fā)明人 李廣鑫;曾特壕;張卓莉;陳朝暉;李中原 申請（專利權）人 深圳市盛波光電科技有限公司
代理機構 深圳市科吉華烽知識產權事務所（普通合伙） 代理人 胡吉科
地址 518000廣東省深圳市坪山新區(qū)大工業(yè)區(qū)青松路8號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種低收縮高耐久型染料系偏光片及其制備方法，該制備方法包括：調配混合染色液，將混合染色液注入染色槽中，加入助染劑，使聚乙烯醇系薄膜在染色液中的拉伸倍率為1.5~2.0；染色助劑的質量百分比濃度為0.5~5.0%，所述混合染色液的溫度為20~60℃；將聚乙烯醇系薄膜進行單軸拉伸取向，使聚乙烯醇系薄膜的拉伸倍率為1.5~2.7；將聚乙烯醇系薄膜浸漬于含有固色劑和交聯(lián)劑的水溶液進行固色，拉伸倍率為0.9~1.1；對偏光膜進行干燥，干燥溫度為35~70℃；將偏光膜通過膠粘劑上下貼合兩層內保護膜形成層壓體。采用本發(fā)明的技術方案，制備的染料系偏光片在高溫高濕環(huán)境下還具有低收縮、高耐久的特性。