半導(dǎo)體器件的臨時(shí)鍵合與解鍵合的方法以及半導(dǎo)體器件
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202011256672.0 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN112382599B | 公開(kāi)(公告)日 | 2021-07-16 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN112382599B | 申請(qǐng)公布日 | 2021-07-16 |
分類(lèi)號(hào) | H01L21/683 | 分類(lèi) | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 王淼;曾懷望;焦文龍;楊睿峰;李嗣晗 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 | 聯(lián)合微電子中心有限責(zé)任公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京市漢坤律師事務(wù)所 | 代理人 | 初媛媛;吳麗麗 |
地址 | 401332 重慶市沙坪壩區(qū)西園一路28號(hào)附2號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 公開(kāi)了一種半導(dǎo)體器件的臨時(shí)鍵合與解鍵合的方法以及半導(dǎo)體器件。該半導(dǎo)體器件的臨時(shí)鍵合與解鍵合方法包括:在第一晶圓上形成第一金屬層,第一晶圓中形成有器件結(jié)構(gòu)并且第一金屬層形成在第一晶圓的靠近器件結(jié)構(gòu)的一側(cè);在第二晶圓上形成對(duì)應(yīng)于第一金屬層的第二金屬層;將第二金屬層鍵合至第一金屬層,以使得第二晶圓鍵合至第一晶圓;在第一晶圓的遠(yuǎn)離器件結(jié)構(gòu)的一側(cè)進(jìn)行背面工藝;通過(guò)電化學(xué)陽(yáng)極金屬溶解進(jìn)行解鍵合,以使得第一晶圓與第二晶圓分離。 |
