一種基于背向工藝的光柵耦合結(jié)構(gòu)及制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110804838.6 申請日 -
公開（公告）號 CN113359236A 公開（公告）日 2021-09-07
申請公布號 CN113359236A 申請公布日 2021-09-07
分類號 G02B6/26;G02B6/34 分類 光學;
發(fā)明人 吳月;朱繼光;寧寧;潘伯津 申請（專利權(quán)）人 聯(lián)合微電子中心有限責任公司
代理機構(gòu) 江蘇坤象律師事務(wù)所 代理人 趙新民
地址 401332 重慶市沙坪壩區(qū)西園一路28號附2號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種基于背向工藝的光柵耦合結(jié)構(gòu)，通過在波導衍射光柵層上設(shè)置非金屬結(jié)構(gòu)反射鏡層，極大地提高光柵的耦合效率，減小光柵?光纖耦合損耗。反射鏡層采用至少一個分布式布拉格反射鏡結(jié)構(gòu)或光柵反射鏡結(jié)構(gòu)，沒有金屬吸收的問題，更耐高溫，與傳統(tǒng)的光學器件更兼容而不會引起不必要的損耗，且不存在金屬反射鏡后段工藝污染問題；本發(fā)明還提供的一種基于背向工藝的光柵耦合結(jié)構(gòu)的制備方法，采用標準晶圓為初始晶圓，單步刻蝕工藝簡單，通過單次沉積刻蝕即可滿足更大帶寬的光耦合反射需求；在不影響原有架構(gòu)的基礎(chǔ)上，根據(jù)設(shè)計需求可靈活滿足不同波段的反射高度需求從而具有相應(yīng)優(yōu)勢。