掩膜板及其制作方法、OLED顯示基板的制作方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910690971.6 申請日 -
公開（公告）號 CN110453173B 公開（公告）日 2021-09-21
申請公布號 CN110453173B 申請公布日 2021-09-21
分類號 C23C14/04（2006.01）I;C23C14/12（2006.01）I;C23C14/24（2006.01）I;H01L51/00（2006.01）I;H01L51/56（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 金熙哲;陳騰;孟維欣 申請（專利權(quán)）人 重慶京東方顯示技術(shù)有限公司
代理機構(gòu) 北京銀龍知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 許靜;胡影
地址 100015北京市朝陽區(qū)酒仙橋路10號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種掩膜板及其制作方法、OLED顯示基板的制作方法，該掩膜板包括：掩膜板本體，所述掩膜板本體上開設(shè)有多個蒸鍍孔；多個阻擋環(huán)，設(shè)置于所述掩膜板本體上，與所述多個蒸鍍孔一一對應(yīng)，圍設(shè)在對應(yīng)的所述蒸鍍孔的周圍。當采用本發(fā)明的掩膜板向待蒸鍍基板蒸鍍有機發(fā)光材料時，在蒸鍍過程中，從蒸鍍孔內(nèi)通過的有機發(fā)光材料會被阻擋環(huán)阻擋，減少或者避免有機發(fā)光材料向蒸鍍孔正對區(qū)域以外的區(qū)域擴散，減少了蒸鍍陰影的面積，從而可避免相鄰的不同顏色的有機發(fā)光層交叉污染。