子掩膜版以及掩膜版

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910932119.5 申請日 -
公開（公告）號 CN110484864B 公開（公告）日 2021-09-10
申請公布號 CN110484864B 申請公布日 2021-09-10
分類號 C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;H01L51/56 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 陳騰;陳奎;孟維欣;李杰 申請（專利權(quán)）人 重慶京東方顯示技術(shù)有限公司
代理機構(gòu) 北京安信方達知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 解婷婷;曲鵬
地址 100015 北京市朝陽區(qū)酒仙橋路10號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明實施例提供一種子掩膜版以及掩膜版，該子掩膜版包括襯底以及設(shè)置在所述襯底上的掩膜圖案，所述掩膜圖案包括至少一個與所述子掩膜版的拉伸方向朝向不同的第一角部，以及至少一個與所述子掩膜版的拉伸方向朝向相同的第二角部，所述第一角部為圓角，所述第二角部為倒角；該子掩膜版能夠降低張網(wǎng)過程中的褶皺高度，提高子掩膜版的蒸鍍效果。