一種高強(qiáng)度減反膜系結(jié)構(gòu)
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201110434960.5 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN103176225A | 公開(kāi)(公告)日 | 2013-06-26 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN103176225A | 申請(qǐng)公布日 | 2013-06-26 |
分類(lèi)號(hào) | G02B1/11(2006.01)I;B32B33/00(2006.01)I;B32B9/04(2006.01)I | 分類(lèi) | 光學(xué); |
發(fā)明人 | 葉祥云;湯士博 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 | 鳳凰光學(xué)(上海)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海新天專(zhuān)利代理有限公司 | 代理人 | 王敏杰 |
地址 | 200001 上海市嘉定區(qū)勝辛北路2199號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供了一種高強(qiáng)度減反射膜系結(jié)構(gòu),包括基材S-FPL51和鍍?cè)诨纳系腁R膜。其中AR膜是一種減反膜,從內(nèi)到外包括九層膜結(jié)構(gòu):第一低折射率膜(L1)、中折射率膜(M)、第二低折射率膜(L2)、第一高折射率膜(H1)、第三低折射率膜(L3)、第二高折射率膜(H2)、第四低折射率膜(L4)、第三高折射率膜(H3)、第五低折射率膜(L5)。本發(fā)明所述高強(qiáng)度減反射膜系結(jié)構(gòu)耐高溫,能長(zhǎng)久使用,對(duì)極端環(huán)境要求下的光學(xué)儀器性能穩(wěn)定提供了一中生存可能,為光學(xué)鏡片設(shè)計(jì)和制造提供便利。 |
