一種雙流體噴射系統(tǒng)
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201921907280.9 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN211246055U | 公開（公告）日 | 2020-08-14 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN211246055U | 申請(qǐng)公布日 | 2020-08-14 |
| 分類號(hào) | B01D53/56(2006.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 蘭勇劍 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 北京揚(yáng)德環(huán)保能源科技股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京棘龍知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 戴麗偉 |
| 地址 | 100097北京市海淀區(qū)藍(lán)靛廠東路2號(hào)院2號(hào)樓(金源時(shí)代商務(wù)中心2號(hào)樓)B座6D | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型涉及脫硝設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種雙流體噴射系統(tǒng)。本實(shí)用新型提供的雙流體噴射系統(tǒng)包括氣體通道、還原劑主通道、還原劑支路、吹掃通道、雙流體噴槍、增壓循環(huán)泵、流量調(diào)節(jié)閥、單向閥、流量計(jì)、第一開關(guān)閥和第二開關(guān)閥；在還原劑主通道上設(shè)置流量調(diào)節(jié)閥和流量計(jì)，能夠?qū)崟r(shí)精確地控制還原劑流量，還原劑進(jìn)行增壓循環(huán)從而保證穩(wěn)壓閥前還原劑壓力相對(duì)穩(wěn)定，有效控制還原劑的噴射量并促進(jìn)還原劑與煙氣的混合及反應(yīng)，進(jìn)而大幅提高霧化效果；壓縮空氣除經(jīng)過(guò)氣體通道進(jìn)入雙流體噴槍外，還同時(shí)經(jīng)過(guò)還原劑主通道，將還原劑主通道內(nèi)的還原劑吹掃進(jìn)入雙流體噴槍，避免在還原劑主通道上存留還原劑，造成還原劑結(jié)晶堵塞。?? |
