一種雙流體噴射系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201921907280.9 申請日 -
公開（公告）號 CN211246055U 公開（公告）日 2020-08-14
申請公布號 CN211246055U 申請公布日 2020-08-14
分類號 B01D53/56(2006.01)I 分類 -
發(fā)明人 蘭勇劍 申請（專利權(quán)）人 北京揚德環(huán)保能源科技股份有限公司
代理機構(gòu) 北京棘龍知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 戴麗偉
地址 100097北京市海淀區(qū)藍靛廠東路2號院2號樓(金源時代商務(wù)中心2號樓)B座6D
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及脫硝設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種雙流體噴射系統(tǒng)。本實用新型提供的雙流體噴射系統(tǒng)包括氣體通道、還原劑主通道、還原劑支路、吹掃通道、雙流體噴槍、增壓循環(huán)泵、流量調(diào)節(jié)閥、單向閥、流量計、第一開關(guān)閥和第二開關(guān)閥；在還原劑主通道上設(shè)置流量調(diào)節(jié)閥和流量計，能夠?qū)崟r精確地控制還原劑流量，還原劑進行增壓循環(huán)從而保證穩(wěn)壓閥前還原劑壓力相對穩(wěn)定，有效控制還原劑的噴射量并促進還原劑與煙氣的混合及反應(yīng)，進而大幅提高霧化效果；壓縮空氣除經(jīng)過氣體通道進入雙流體噴槍外，還同時經(jīng)過還原劑主通道，將還原劑主通道內(nèi)的還原劑吹掃進入雙流體噴槍，避免在還原劑主通道上存留還原劑，造成還原劑結(jié)晶堵塞。??